Domstols Målregister

Målet gäller: Sätt och anordning för att bilda en beläggning på glasaktiga skivor eller band.

Ink datum: 1989-09-01

Reg datum: -

Överklagat: -

PRV:s nummer: 8302395-2

PRV beslutsdag: 1989-06-21

Överklagat till Högsta förvaltningsdomstolen

Mål nr: -

Beslut: -

Klass: -

Juridiska sökord: -

Tekniska sökord: glasbeläggning, "omvärmning"

Lagrum: -

Måltyp: patent

Utgång: avslag

Beslutskategori: övrigt

Klagande

Klagandetyp: sökande

Namn: Glaverbel

Ombud: Albihns Patentbyrå AB, H.

Fler Klagande: -

Motpart

Namn: -

Ombud: -

Fler Motparter: -

Referat: Varmt glas belägges och "omvärmes" före kylning.

Referat fortsättning : -

Text: YRKANDEN

Sökanden har i Patentbesvärsrätten vidhållit ansökningen med nya patentkrav vilka inkom den 20 oktober 1989.

Patentbesvärsrätten bifaller inte besvären.

SKÄL

Från den i avslagsbeslutet åberopade amerikanska patentskriften 4,240,816 är det tidigare känt att belägga ett glassubstrat med en metallförening och "omvärma" det belagda substratet före kylning. Omvärmningen är avsedd att återställa den värme som gått förlorad vid beläggningssteget samt att ge glaset en temperatur som är lämplig för den efterföljande kylningen.

Förfarandet enligt förevarande krav 1 innefattar beläggning av glassubstrat med en metallförening, omvärmning och kylning. Omvärmningen anges ske genom tillförsel av tillräcklig strålningsvärmeenergi för att höja temperaturen eller genomsnittstemperaturen på substratets belagda yta "genom ett visst temperaturområde", varvid åtminstone den övre änden av sådant område ej är mindre än en temperatur 100°C under temperaturen på ytan omedelbart före kontakten med förbeläggningsmaterialet. Vidare preciseras att substratets belagda yta uppvärms av en eller flera strålningsvärmare som utsänder strålning med en svartkropp-temperatur av 900°C till 1600°C. Avsikten med omvärmningen anges i ansökan främst vara att få förbättrad vidhäftning av beläggningen till substratet och en mer enhetlig struktur hos beläggningen - i jämförelse med beläggningar erhållna genom förfaranden utan omvärmningssteg. Det framgår även att omvärmningssteget är av betydelse för att ersätta värme som gått förlorad vid beläggningssteget och för att förbereda materialet för efterföljande kylning, beskrivningen sid 3 rad 16-20, sid 5 rad 11-14 och sid 9 rad 3-8.

Sökanden har i besvären hävdat att det patentsökta förfarandet skiljer sig från det enligt hänvisningen dels vad gäller sättet för omvärmning dels vad gäller kylningen. Sökanden anför att omvärmningen enligt hänvisningen görs i skivans hela tjocklek och att det ej anges att den görs med strålningsvärmning medan enligt det patentsökta förfarandet värmningen görs endast i de ytliga skikten och med specificerad strålningsvärmning. För kylningen enligt hänvisningen framhåller sökanden att det är fråga om en snabbkylning medan kylningen enligt det patentsökta förfarandet görs i ett kylgalleri där det är fråga om ett försiktigt avsvalnande.

Patentbesvärsrätten gör följande bedömning.

Vad gäller omvärmningen enligt hänvisningen skall först konstateras att denna åtminstone skall återställa den värme som gått förlorad vid beläggningen och således uppnås därigenom en materialtemperatur som anges i kravet 1. I hänvisningen uppges allmänt att substratet omvärms och i figur 2 och 4 visas omvärmning medelst värmeelement (strålningsvärmning), placerade på avstånd från det belagda substratet över och under detta. I föreliggande krav 1 anges att substratets belagda yta värms, men enligt krav 9 kan substratet före kylningen föras genom en temperaturstabiliserande avdelning och här skall, enligt beskrivningen sid 10 rad 3-4, värmeledning från substratets yta till dess inre medges. Detta förfarande, som innefattas i kravet 1, kan inte anses väsentligt skilja sig från värmningen enligt hänvisningen (jämför den amerikanska patentskriften 3,996,035, vilken tidigare anförts i Patentverkets föreläggande och vilken visar ett förfarande som principiellt överensstämmer med det enligt hänvisningen i avslagsbeslutet men där det för omvärmningen angivits att strålningsvärmning ovanifrån utnyttjas, spalt 9 rad 3-6). Att såsom anges i kravet 1 utnyttja strålningsvärmare som utsänder strålning vid en svartkropp-temperatur av 900°C-1600°C utgör ej ett kritiskt särdrag utan det får anses vara enbart en lämplighetsåtgärd för att ge bättre värmningseffekt (jfr beskrivningen s. 5, r. 16-26) och kan ej bidraga till att motivera ett patentskydd för förfarandet.

Beträffande kylningen anger hänvisningen snabbkylning och i föreliggande krav 1 anges att det belagda substratet kyls i en kylkanal. Även om den senare angivelsen för fackmannen må indikera en långsam avsvalning kan den dock ej medföra att förfarandet enligt kravet därigenom skulle väsentligen skilja sig från vad som är känt genom hänvisningen. Då det är känt att omvärma belagt glas före snabbkylning får det anses närliggande att omvärma sådant glas även före en långsammare avkylning.

Förfarandet enligt patentkravet 1 kan vid ovan angivna förhållanden ej anses väsentligen skilja sig från vad som är tidigare känt.

Patentkravet 14 avser en anordning för genomförande av beläggningsförfarandet. Anordningen kännetecknas främst av att en omvärmningsavdelning finns mellan en beläggningsstation och en kylkanal och att avdelningen är skild från beläggningsstationen genom åtminstone en begränsningsvägg samt att ett flertal strålningsvärmare är anordnade ovanför substratvägens bredd i omvärmningsavdelningen.

Från den anordning som är känd genom amerikanska patentskriften 4,240,816 skiljer sig den patentsökta anordningen främst genom begränsningsväggen. Att fysiskt avgränsa två distinkta zoner genom att införa en vägg framstår som närliggande för fackmannen och därför kan inte heller patentkravet 14 anses definiera en patenterbar uppfinning.

Suzanne Depken Ann-Charlotte Widegren Stig Bragnum

Referent

Enhälligt

BESVÄRSHÄNVISNING, se bilaga (Formulär A)

ak

Visa mer Visa mindre