Domstols Målregister

Målet gäller: Anläggning för tillverkning av metallplåt, särskilt tunn, plan plåt, genom elektroplätering.

Ink datum: 1995-01-18

Reg datum: -

Överklagat: -

PRV:s nummer: 8901724-8

PRV beslutsdag: 1994-11-16

Överklagat till Högsta förvaltningsdomstolen

Mål nr: -

Beslut: -

Klass: -

Juridiska sökord: öppet utnyttjande

Tekniska sökord: elektroplätering, matris, CD

Lagrum: -

Måltyp: patent

Utgång: bifall

Beslutskategori: intressant

Klagande

Klagandetyp: invändare

Namn: Toolex Alpha AB

Ombud: Peter Winblad Albihns Patentbyrå Stockholm AB

Fler Klagande: -

Motpart

Namn: Weicon Engineering AB

Ombud: Göte Wennborg Kransell & Wennborg AB

Fler Motparter: -

Referat: Uppfinningen avser en anläggning för elektroplätering, särskilt för framställning av matriser till CD-skivor. Anläggningen är uppbyggd som brukligt är vid plätering av matriser. Den karakteriserades därutöver främst av att elektrolytkärlet och kommutatorn, vid vilken katoden är roterbart fäst, var separat infästa i anläggningens bärstativ så att noggrann inställning av katodens och anodens inbördes avstånd och parallellitet enkelt kan åstadkommas. Invändaren åberopade öppet utnyttjande, vilket varken PRV eller PBR ansåg styrkt. PBR åberopade istället en tidigare anförd amerikansk patentskrift samt ansåg att nämnda infästning var närliggande för fackmannen.

Referat fortsättning : -

Text: YRKANDEN

I överklagandet yrkar invändaren att ansökningen avslås.

Sökanden vidhåller ansökningen med nya patentkrav inkomna den 26 september 1997.

I målet har hållits muntlig förhandling.

Patentbesvärsrätten undanröjer överklagade beslutet och avslår ansökningen.

SKÄL

Uppfinningen avser en anläggning för tillverkning av metallplåt genom elektroplätering, särskilt för framställning av matriser till CD - skivor. Ett problem vid tillverkning av sådana matriser är att få en jämn godstjocklek över hela matrisytan eftersom godstjockleken har en tendens att öka mot matrisens ytterkant. Föreliggande uppfinning avser att lösa bl.a. detta problem.

Den patentsökta pläteringsanläggningen innefattar som brukligt är vid matrisframställning ett elektrolytkärl med en katod bestående av en formskiva som är roterbart uppburen av en kommutatoraxel. Parallellt med denna skiva är en anod anordnad i form av en korg innehållande kulor av den metall som skall pläteras. Vidare är en skärm för att begränsa det elektriska fältet med en kragförsedd öppning placerad mellan katoden och anoden tillsammans med ett sprutmunstycke för tillförsel av elektrolytvätska i området för öppningen. Enligt den kännetecknande delen till kravet 1 karakteriseras anläggningen främst av att dels avstånden mellan anoden och katoden samt mellan katoden och skärmkragens kant är mindre än 50 resp. 10 mm i syfte att upprätthålla turbulent strömning hos elektrolyten även utefter katodens ytterparti, dels elektrolytkärlet och kommutatorn är separat infästa i anläggningens stativ för att tillåta enkel och noggrann inställning av avstånd och parallellitet mellan katod och anod. Vidare är kärlets lock manövrerbart oberoende av nämnda infästning.

Invändaren har som hinder för bifall till ansökningen åberopat en pläteringsanläggning av egen konstruktion och gjort gällande att denna dels överensstämmer med den patentsökta anläggningen, dels blivit allmänt tillgänglig genom öppet utnyttjande till följd av att en prototyp av anläggningen demonstrerats för åtminstone tre presumtiva köpare före ansökningens ingivningsdag utan något sekretessförbehåll. Invändaren har till styrkande av det påstådda öppna utnyttjandet bl.a. åberopat ritningar, offerter, intyg samt vittnesförhör med en anställd.

Sökanden har bestritt såväl att de båda aktuella anläggningarna överensstämmer med varandra som att invändarens anläggning blivit allmänt tillgänglig före ansökningsdagen. Vidare har sökanden hävdat att bestämmelsen i 2 § femte stycket 1) patentlagen är tillämplig på grund av att invändarens konstruktion är framtagen som följd av uppenbart missbruk av sekretessbelagd information från sökanden.

Parterna har vidare i Patentbesvärsrätten getts särskilt tillfälle att yttra sig över det i Patentverket före ansökningens godkännande för utläggning anförda nyhetsmaterialet.

Patentbesvärsrätten gör följande bedömning.

Vad först angår det åberopade öppna utnyttjandet finner Patentbesvärsrätten att det av invändaren åberopade materialet inte är av sådan karaktär att det därav kan anses klart framgå att invändarens anläggning blivit allmänt tillgänglig i patentlagens mening före ansökningsdagen. Denna anläggning utgör därför inte nyhetshinder i målet. Vid sådant förhållande saknas anledning att ta ställning till frågan huruvida missbruk av information förekommit i förhållande till sökanden.

Vad därefter gäller det nyhetsmaterial som före utläggningen anförts i Patentverket är en elektropläteringsanläggning av det slag som anges i ingressen till kravet 1 i huvudsak känd genom den amerikanska patentskriften 4 507 180. Den kända anläggningen är avsedd för bl.a. tillverkning av matriser till ljud- eller bildskivor och har som främsta syfte att åstadkomma en jämn godstjocklek över hela matrisytan. Detta syfte uppnås genom att skärmen mellan anod och katod är så utformad att avståndet mellan skärmkanten och katoden blir så litet som är praktiskt möjligt, t.ex. 2 mm, för att därigenom skapa likformig och turbulent strömning hos elektrolyten vid katodytan. Fackmannen inser att sådana strömningsförhållanden hos den kända konstruktionen endast kan erhållas om spalten mellan skärm och katod har samma bredd runt katodens hela omkrets vilket även förutsätter att skärm och katod har sammanfallande centrumaxlar. Också patentskriftens ritningar ger stöd för denna tolkning. Sammanfattningsvis innebär den patentsökta uppfinningen ifråga om nu berörda omständigheter och även med beaktande av vad som härvidlag framgår av ansökningens beskrivning, inte något nytt i förhållande till känd teknik.

När det sedan gäller de ytterligare bestämningarna i den kännetecknande delen till kravet 1 avseende infästningen av kommutator och kärl samt manövrering av locket berörs dessa inte i den ovannämnda patentskriften. Emellertid är en förutsättning för att den smala spalt som eftersträvas mellan skärm och katod skall kunna åstadkommas och vidmakthållas dels att infästningen av kommutatorn är stabil, dels att viss efterjustering av kommutatorns läge är möjlig. För fackmannen som utgående från dessa förutsättningar söker en lösning på infästningsproblemet framstår den i kravet angivna konstruktionen som det mest närliggande alternativet, särskilt som en tidigare känd konstruktion med en infästning av kommutatorn i locket uppenbarligen inte tillgodoser de krav på precis inställning som gäller för framställning av t.ex. matriser till CD-skivor. Den i kravet 1 angivna anläggningen uppfyller därför inte patenterbarhetsvillkoren enligt 2 § patentlagen.

Lennarth Törnroth Sten-Ove Henningsson Per Carlson

Referent

Enhälligt

ANVISNING FÖR ÖVERKLAGANDE, se bilaga (Formulär A)

ak Visa mer Visa mindre