Patentbesvärsrättens avgöranden


Register över Patentbesvärsrättens mål och avgöranden från 1989 till och med den 31 augusti 2016.
För äldre avgöranden, kontakta Stockholms tingsrätts arkiv.

98-271
2000-04-28
2000-04-28
Patent på "Sätt att framställa klordioxid".
1998-06-09
-
-
9400913-1
1998-04-22
-
-
-
-
Klordioxid, väteperoxid
-
patent
bifall2
intressant
sökande
Eka Chemicals AB
Christer Jönsson c/o Eka Nobel AB
-
-
-
-
Framställning av klordioxid under användning av väteperoxid som reduktionsmedel. Problem: Skumning i klordioxidreaktorn. Lösning: Teknisk väteperoxid med ingen eller mycket låg tennhalt.
-
DOMSLUT

Patentbesvärsrätten undanröjer det överklagande beslutet och visar ansökningen åter till Patentverket för fortsatt behandling på grundval av de patentkrav och den beskrivning som inkom den 27 mars 2000.

YRKANDE M.M.

Sökanden vidhåller ansökningen med nya patentkrav och ny beskrivning inkomna den 27 mars 2000.

I målet har hållits muntlig förhandling.

DOMSKÄL

Patentkravet 1 har följande lydelse:

”Sätt att framställa klordioxid i en kontinuerlig process innefattande stegen: åstadkommande av en reaktor med ett vattenbaserat surt reaktionsmedium innehållande kloratjoner; reaktion av nämnda kloratjoner med väteperoxid som reduktionsmedel i sådana proportioner att klordioxid bildas; avlägsnande av klordioxid från reaktionsmediet; k ä n n e t e c k n a t därav, att väteperoxid stabiliserad med en eller flera fosfonsyror eller salter därav men väsentligen fri från eller innehållande mindre än 10 mg Sn per kg H2O2, kontinuerligt tillförs reaktionsmediet varvid halten av tenn i reaktionsmediet vid stationärt tillstånd hålls lägre än 15 mg Sn per kg reaktionsmedium och graden av skumning hålls på en acceptabelt låg nivå.”.

Genom WO 93/21105, som får anses beskriva närmast liggande teknik, är sättet som anges i ingressen till kravet 1 förut känt. Enligt den i publikationen beskrivna uppfinningen ökar reaktionshastigheten vid framställning av klordioxid med väteperoxid som reduktionsmedel om karbamid eller fosfonsyrabaserade komplexmedel tillsätts. Uppgift om en övre gräns för tennhalten på den låga nivå som anges i föreliggande krav 1 saknas.

Sökanden har hävdat att teknisk väteperoxid används i det förut kända förfarandet och att halten tenn därmed är betydligt högre än vad som anges i föreliggande krav 1. Som stöd för sitt påstående har sökanden inlämnat analysvärden för teknisk väteperoxid vilka samtliga visar högre tennvärden än som omfattas av krav 1.

Det problem som föreliggande uppfinning avser att lösa är att minska den skumning i klordioxidreaktorn som uppträder vid användning av teknisk väteperoxid och som försämrar produktionskapaciteten. Sökanden har funnit att närvaro av tenn i teknisk väteperoxid är orsaken till den alltför stora skumningen och att lösningen på problemet är att hålla tennhalten på den låga nivå som anges i kravet 1.

Denna orsak till problemet eller dess lösning framgår inte av den anförda hänvisningen. Enligt utföringsexempel 3 i denna anges att inget stabiliseringsmedel tillförts väteperoxiden och enligt exempel 5 anges att natriumstannat tillförts i en koncentration av 1% av den totala väteperoxidlösningen. I övriga utföringsexempel nämns inga andra tillsatser än karbamid och fosfonsyraföreningar. Det finns ingen antydan om att sådana halter tenn som ingår i teknisk väteperoxid skulle vara till nackdel på grund av för hög skumning i klordioxidreaktorn. Enligt exempel 5 är den tillsatta mängden tenn betydligt större än de tennmängder som normalt ingår i teknisk väteperoxid. Det tyder på att man inte noterat den tennhalt som normalt ingår i teknisk väteperoxid och det är sannolikt att sådan använts. Sökanden har genom jämförande försök visat att skumningen minskar till acceptabel nivå när tenn inte förekommer i väteperoxiden i jämförelse med när så låg halt som 47 mg tenn/kg väteperoxid är närvarande.

Det patentsökta sättet får mot denna bakgrund anses väsentligen skilja sig från vad som är förut känt varför patentkraven anger en patenterbar uppfinning.

Suzanne Depken Sten-Ove Henningsson Rune Näsman

Referent

Enhälligt

EE
Visa mer Visa mindre